Инструменты нанотехнологий

OpAL. Система атомно слоевого осаждения (ALD)

Система OpAL ориентирована на проведение термического ALD. Однако, установка может быть модернизирована для использования плазменного атомно-слоевого осаждения. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.

OpAL — малогабаритная система с непосредственной загрузкой подложек в рабочую камеру. Представляет собой гибкое и недорогое решение для проведения исследовательских работ и организации мелкосерийного производства.

Система предлагается в вариантах исполнения:

  • термическое атомно-слоевое осаждение (Thermal ALD)
  • атомно-слоевое осаждение с удаленным источником плазмы (Remote Plasma ALD)
Конфигурации OpAL
  ALD RP-ALD
Загрузка без шлюза без шлюза
Перчаточный бокс опция опция
Подложки до 200 мм до 200 мм
Диапазон температур от +25°С до +400°С от +25°С до +400°С
Порты для эллипсометра есть есть
Возбуждение плазмы нет ВЧ
Линий газоподачи с РРГ 2 встроенные линии,
до 8-ми линий во внешнем блоке
2 встроенные линии,
до 8-ми линий во внешнем блоке
Порт для подготовки и подачи H2O есть есть
Прогреваемые порты для жидких и твердых прекурсоров до 3-х до 3-х
Максимальная температура прогрева емкости с прекурсором +200°С +200°С
Вакуумная система форвакуумный насос форвакуумный насос
Система управления PC2000 PC2000
Система OpAL для проведения атомно-слоевого осаждения

Система OpAL для проведения атомно-слоевого осаждения

Информация предоставлена Technoinfo Limited, ИНТЕК

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ