Инструменты нанотехнологий
Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности
Оборудование
Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы
Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы или ПХГФО (Plasma enhanced chemical vapor deposition или PECVD) — процесс обработки полупроводниковых пластин, в ходе которого в реакторе создается плазма, предназначенная для увеличения энергии, необходимой для протекания химической реакции на границе раздела «газовая фаза – поверхность подложки». В результате химической реакции на поверхности полупроводниковой пластины из газовой фазы осаждается тонкая пленка требуемого вещества. ПХГФО используется в большинстве стандартных приложений микроэлектроники, микромеханики и нанотехнологий. Типичная температура осаждения лежит в районе 300 °С.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition M600 для нанесения тонких пленок.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition NanoSys500 для выращивания тонких пленок.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы
Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника
SI 500 PPD Parallel Plate PECVD Deposition System — установка плазмо-химического осаждения диэлектриков с параллельными пластинами (PECVD) производства SENTECH Instruments GmbH (Германия).
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника
SI 500 D PTSA ICP Plasma Deposition System (ICPECVD) — установка нихкотемпературного плазмо-химического осаждения диэлектриков в индуктивно-связанной плазме (ICPECVD) с вакуумным загрузочным шлюзом.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы
Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника
Depolab 200 — PECVD установка плазмо-химического осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза (open lid system).
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited
Рубрикатор: Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы
Ключевые слова: plasmalab 100
Plasmalab 100 — системы, которые решают широкий круг задач плазменного травления и осаждения. Обрабатывают пластины до 200 мм. Серия Plasmalab 100 предлагает гибкие и производительные решения для организации исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited
Рубрикатор: Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы
Ключевые слова: plasmalab 133
Plasmalab 133 — системы со шлюзовой загрузкой подложек. Спроектированы для проведения процессов плазменного травления и осаждения на пластинах диаметром 300 мм и крупных партиях пластин меньшего диаметра. Серия Plasmalab 133 предлагает гибкие и производительные решения для организации исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства.
© www.rusnanonet.ru 2008-2015. Все права защищены.
Перепечатка материалов сайта разрешается только с активной ссылкой на www.rusnanonet.ru
Нанотехнологическое оборудование. Портал RusNanoNet.ru
