Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности

Оборудование

Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы или ПХГФО (Plasma enhanced chemical vapor deposition или PECVD) — процесс обработки полупроводниковых пластин, в ходе которого в реакторе создается плазма, предназначенная для увеличения энергии, необходимой для протекания химической реакции на границе раздела «газовая фаза – поверхность подложки». В результате химической реакции на поверхности полупроводниковой пластины из газовой фазы осаждается тонкая пленка требуемого вещества. ПХГФО используется в большинстве стандартных приложений микроэлектроники, микромеханики и нанотехнологий. Типичная температура осаждения лежит в районе 300 °С.

2

PECVD SI 500 PPD. Установка плазменного осаждения диэлектриков с вакуумным загрузочным шлюзом

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника

SI 500 PPD Parallel Plate PECVD Deposition System — установка плазмо-химического осаждения диэлектриков с параллельными пластинами (PECVD) производства SENTECH Instruments GmbH (Германия).

Depolab 200. Установка плазменного осаждения диэлектриков без шлюза

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника

Depolab 200 — PECVD установка плазмо-химического осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза (open lid system).

Plasmalab 100. Система со шлюзовой загрузкой подложек

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: plasmalab 100

Plasmalab 100 — системы, которые решают широкий круг задач плазменного травления и осаждения. Обрабатывают пластины до 200 мм. Серия Plasmalab 100 предлагает гибкие и производительные решения для организации исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства.

Plasmalab 133. Система со шлюзовой загрузкой подложек

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: plasmalab 133

Plasmalab 133 — системы со шлюзовой загрузкой подложек. Спроектированы для проведения процессов плазменного травления и осаждения на пластинах диаметром 300 мм и крупных партиях пластин меньшего диаметра. Серия Plasmalab 133 предлагает гибкие и производительные решения для организации исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства.

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ