Инструменты нанотехнологий
Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности
Оборудование
Плазма — это ионизированный газ, содержащий ионы, электроны, атомы и нейтральные частицы - четвертое состояние вещества. Плазменные технологии в настоящее время широко используются для очистки и модификации различных поверхностей: изменяя только поверхностные свойства, они не затрагивают структуру материала.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition M600 для нанесения тонких пленок.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, МОС-гидридная эпитаксия, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Атомно-слоевое осаждение, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Mantis Deposition NanoSys500 для выращивания тонких пленок.
Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)
Поставщик: Экситон Аналитик, ООО
Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление
Ключевые слова: Молекулярно-лучевая эпитаксия
ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Qprep500 для выращивания тонких пленок из металлов.
Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)
Поставщик: Technoinfo Limited
Рубрикатор: Реактивное ионное травление
Ключевые слова: плазмохимическое травление
Компактная система с открытой загрузкой для проведения процессов плазмохимического травления и нанесения, пришедшая на смену отлично зарекомендовавшей себя системе Plasmalab 80plus. Использование PlasmaPro NGP80 позволяет решать как исследовательские задачи, так и организовать мелкосерийное производство. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.
Производитель: Angstrom Engineering Inc.
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: вакуумное напыление, PVD, резистивное термические испарение, resistive thermal evaporation, магнетронное напыление, sputter deposition, электронно-лучевое испарение, electron beam evaporation, ion-assisted deposition, ионное асистирование
Компактная установка COVAP II для вакуумного напыления в НИОКР. Бюджетная система. Может оснащаться перчаточным боксом.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы
Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника
SI 500 PPD Parallel Plate PECVD Deposition System — установка плазмо-химического осаждения диэлектриков с параллельными пластинами (PECVD) производства SENTECH Instruments GmbH (Германия).
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника, травление в индуктивно-связанной плазме, ИСП плазма, травление наноструктур
Система травления SI 500 PTSA ICP plasma etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов высокоскоростного сухого плазменного травления кремния (в том числе Bosh-процесс), диэлектриков и полупроводниковых структур (особенно III/V и микрооптики) и наноструктур в индуктивно-связанной плазме.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника
SI 500 D PTSA ICP Plasma Deposition System (ICPECVD) — установка нихкотемпературного плазмо-химического осаждения диэлектриков в индуктивно-связанной плазме (ICPECVD) с вакуумным загрузочным шлюзом.
Производитель: Angstrom Engineering Inc.
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление
Ключевые слова: вакуумное напыление, PVD, резистивное термические испарение, resistive thermal evaporation, магнетронное напыление, sputter deposition, электронно-лучевое испарение, electron beam evaporation, ion-assisted deposition, ионное ассистирование
Установки вакуумного напыления AMOD компании Angstrom Engineering Inc. для исследований в области напыления тонких пленок. Могут оснащаться перчаточным боксом.
Производитель: Izovac
Рубрикатор: Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление
Ключевые слова: вакуумное оборудование, ионно-лучевое, магнетронное распыление, вакуумная установка
Новейшая вакуумная установка Aspira-150 для решения оптических задач высокой сложности.
На страницу назад
На страницу вперед
© www.rusnanonet.ru 2008-2015. Все права защищены.
Перепечатка материалов сайта разрешается только с активной ссылкой на www.rusnanonet.ru
Нанотехнологическое оборудование. Портал RusNanoNet.ru
