Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности

Оборудование

Плазменные технологии

Плазма — это ионизированный газ, содержащий ионы, электроны, атомы и нейтральные частицы - четвертое состояние вещества. Плазменные технологии в настоящее время широко используются для очистки и модификации различных поверхностей: изменяя только поверхностные свойства, они не затрагивают структуру материала.

18

Qprep500. Система молекулярно-лучевой эпитаксии

Производитель: Mantis Deposition (United Kingdom)

Поставщик: Экситон Аналитик, ООО

Рубрикатор: Молекулярно-лучевая эпитаксия, Научно-исследовательские комплексы, Синтез наноматериалов, Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление

Ключевые слова: Молекулярно-лучевая эпитаксия

ООО «Экситон Аналитик» предлагает систему молекулярно-лучевой эпитаксии Qprep500 для выращивания тонких пленок из металлов.

10

PlasmaPro NGP80. Установка для исследовательских работ

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление

Ключевые слова: плазмохимическое травление

Компактная система с открытой загрузкой для проведения процессов плазмохимического травления и нанесения, пришедшая на смену отлично зарекомендовавшей себя системе Plasmalab 80plus. Использование PlasmaPro NGP80 позволяет решать как исследовательские задачи, так и организовать мелкосерийное производство. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.

10

Zeiss Neon® 60. Аналитический автоэмиссионный электронный микроскоп

Производитель: Carl Zeiss Group (Германия)

Поставщик: ОПТЭК (ZEISS Group)

Рубрикатор: Аналитические системы, Ионно-лучевая обработка, Просвечивающие электронные микроскопы

Ключевые слова: электронный микроскоп, ПЭМ

Аналитический автоэмиссионный электронно-ионный (двухлучевой) растровый электронный микроскоп для исследования наноструктур, нанопрепарирования, электронно-лучевой и ионно-лучевой литографии, инспекционных целей и подготовки сверхтонких срезов для исследований методами ПЭМ.

2

PECVD SI 500 PPD. Установка плазменного осаждения диэлектриков с вакуумным загрузочным шлюзом

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника

SI 500 PPD Parallel Plate PECVD Deposition System — установка плазмо-химического осаждения диэлектриков с параллельными пластинами (PECVD) производства SENTECH Instruments GmbH (Германия).

2

SI 500 PTSA ICP Plasma Etcher. Установка реактивно-ионного травления в индуктивно-связанной плазме ICP-RIE

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий

Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника, травление в индуктивно-связанной плазме, ИСП плазма, травление наноструктур

Система травления SI 500 PTSA ICP plasma etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов высокоскоростного сухого плазменного травления кремния (в том числе Bosh-процесс), диэлектриков и полупроводниковых структур (особенно III/V и микрооптики) и наноструктур в индуктивно-связанной плазме.

Amod. Установка вакуумного напыления

Производитель: Angstrom Engineering Inc.

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Ионно-лучевая обработка, Магнетронное напыление

Ключевые слова: вакуумное напыление, PVD, резистивное термические испарение, resistive thermal evaporation, магнетронное напыление, sputter deposition, электронно-лучевое испарение, electron beam evaporation, ion-assisted deposition, ионное ассистирование

Установки вакуумного напыления AMOD компании Angstrom Engineering Inc. для исследований в области напыления тонких пленок. Могут оснащаться перчаточным боксом.

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ