Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности

Оборудование

Плазменное травление

Одним из методов создания микро- и наноструктур и микроэлектронных схем является метод плазменного травления. Плазменное травление (Plasma etching) — метод переноса рисунка фоторезиста на соответствующие слои полупроводниковой структуры. Метод заключается в селективном удалении немаскированных участков фоторезиста - травлении. Сухое травление называют также плазменным травлением. Подразумевается использование в этих методах плазмы в виде газовых разрядов при низком давлении.

Плазменное травление может осуществляться разными методами: ионным травлением и методами реактивного травления.

10

PlasmaPro NGP80. Установка для исследовательских работ

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление

Ключевые слова: плазмохимическое травление

Компактная система с открытой загрузкой для проведения процессов плазмохимического травления и нанесения, пришедшая на смену отлично зарекомендовавшей себя системе Plasmalab 80plus. Использование PlasmaPro NGP80 позволяет решать как исследовательские задачи, так и организовать мелкосерийное производство. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.

2

SI 500 PTSA ICP Plasma Etcher. Установка реактивно-ионного травления в индуктивно-связанной плазме ICP-RIE

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий

Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника, травление в индуктивно-связанной плазме, ИСП плазма, травление наноструктур

Система травления SI 500 PTSA ICP plasma etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов высокоскоростного сухого плазменного травления кремния (в том числе Bosh-процесс), диэлектриков и полупроводниковых структур (особенно III/V и микрооптики) и наноструктур в индуктивно-связанной плазме.

Caroline. Установки вакуумного напыления, травления, осаждения

Производитель: ООО «ЭСТО-Вакуум» (Россия)

Поставщик: ООО «ЭСТО-Вакуум»

Рубрикатор: Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление

Ключевые слова: вакуумное оборудоание, вакуумное напыление, травление, осаждение

ООО «ЭСТО-Вакуум» предлагает серию установок акуумного напыления, травления и осаждения различных материалов Caroline.

RIE Etchlab 200 Plasma Etcher. Установка реактивно-ионного травления

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий

Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника

Система травления RIE Etchlab 200 Plasma Etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов сухого плазменного травления.

HPT100 Henniker. Cистема плазменной обработки поверхности в вакууме

Производитель: Henniker Plasma (Великобритания)

Поставщик: Серния Инжиниринг, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление

Ключевые слова: плазменная обработка поверхности, обработка поверхности в вакууме, HPT100, Henniker

ООО «Серния» представляет систему плазменной обработки поверхности в вакууме HPT100 Henniker от компании Henniker Plasma (Великобритания).

Irida. Кластерное оборудование

Производитель: ООО «ЭСТО-Вакуум» (Россия)

Поставщик: ООО «ЭСТО-Вакуум»

Рубрикатор: Магнетронное напыление, Плазмохимическое травление

Ключевые слова: кластерное оборудование, вакуумное напыление

ООО «ЭСТО-Вакуум» предлагает кластерное оборудование Irida.

Автоматическая система химической декапсуляции JetEtch Pro Nisene Technology Group

Производитель: Nisene Technology Group (США)

Поставщик: Серния Инжиниринг, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление

Ключевые слова: декапсуляция, jetetch pro

ООО «Серния» представляет автоматическую систему химической декапсуляции JetEtch Pro от компании Nisene Technology Group.

Minilock Duo Trion. Система плазмохимического травления и осаждения

Производитель: Trion Technology (США)

Поставщик: Серния Инжиниринг, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление

Ключевые слова: оборудование, травление, осаждение, плазмохимические процессы

ООО «Серния» представляет Minilock Duo Trion — систему плазмохимического травления и осаждения 2 в 1 от компании Trion Technology (США).

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ