Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности

Оборудование

Реактивное ионное травление

Реактивное Ионное Травление или РИТ (в англоязычном варианте - Reactive Ion Etching или RIE), является разновидностью сухого травления, в которой существенной составляющей процесса является ионная бодбардировка поверхности материала.

Реактивное ионное травление позволяет решить широкий круг задач по изотропному и анизотропному сухому травлению широкого спектра материалов в микроэлектронике, микромеханике и нанотехнологиях.

10

PlasmaPro NGP80. Установка для исследовательских работ

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление

Ключевые слова: плазмохимическое травление

Компактная система с открытой загрузкой для проведения процессов плазмохимического травления и нанесения, пришедшая на смену отлично зарекомендовавшей себя системе Plasmalab 80plus. Использование PlasmaPro NGP80 позволяет решать как исследовательские задачи, так и организовать мелкосерийное производство. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.

2

SI 500 PTSA ICP Plasma Etcher. Установка реактивно-ионного травления в индуктивно-связанной плазме ICP-RIE

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий

Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника, травление в индуктивно-связанной плазме, ИСП плазма, травление наноструктур

Система травления SI 500 PTSA ICP plasma etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов высокоскоростного сухого плазменного травления кремния (в том числе Bosh-процесс), диэлектриков и полупроводниковых структур (особенно III/V и микрооптики) и наноструктур в индуктивно-связанной плазме.

RIE Etchlab 200 Plasma Etcher. Установка реактивно-ионного травления

Производитель: SENTECH Instruments GmbH

Поставщик: МИНАТЕХ, ООО

Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий

Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника

Система травления RIE Etchlab 200 Plasma Etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов сухого плазменного травления.

Plasmalab 100. Система со шлюзовой загрузкой подложек

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: plasmalab 100

Plasmalab 100 — системы, которые решают широкий круг задач плазменного травления и осаждения. Обрабатывают пластины до 200 мм. Серия Plasmalab 100 предлагает гибкие и производительные решения для организации исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства.

Plasmalab 133. Система со шлюзовой загрузкой подложек

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы

Ключевые слова: plasmalab 133

Plasmalab 133 — системы со шлюзовой загрузкой подложек. Спроектированы для проведения процессов плазменного травления и осаждения на пластинах диаметром 300 мм и крупных партиях пластин меньшего диаметра. Серия Plasmalab 133 предлагает гибкие и производительные решения для организации исследовательских работ, мелкосерийного и серийного производства.

Plasmalab 80 plus. Установка для исследовательских работ

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление

Ключевые слова: plasmalab 80

Малогабаритные системы с открытой загрузкой образцов для проведения процессов плазмохимического травления и осаждения в исследовательских, опытно-конструкторских работах и мелкосерийном производстве. Обрабатывают пластины до 200 мм.

Plasmalab 800 plus. Установка для исследовательских работ

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: ИНТЕК, Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление

Ключевые слова: plasmalab 800

Система с открытой загрузкой образцов для проведения процессов плазмохимического травления и осаждения в опытно-конструкторских работах и мелкосерийном производстве. Обрабатывает пластины до 300 мм или партии подложек меньшего размера.

PlasmaPro 800plus. Установка для исследовательских работ

Производитель: Oxford Instruments Plasma Technology (Великобритания)

Поставщик: Technoinfo Limited

Рубрикатор: Реактивное ионное травление

Система с открытой загрузкой образцов для проведения процессов плазмохимического травления и осаждения в опытно-конструкторских работах и мелкосерийном производстве. Является продолжением линейки оборудования с открытой загрузкой, следующим за Plasmalab 800plus. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 300 мм или партии подложек меньшего размера.

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ