Инструменты нанотехнологий
Сортировать: по рейтингу | по названию | по дате поступления | по популярности
Поиск по производителю
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
SENTECH Instruments GmbH — компания, которая занимается разработкой и производством систем плазмо-химического травления (RIE, ICP-RIE), плазмо-химического осаждения диэлектриков (PECVD, ICPECVD), а также систем метрологии тонких пленок для измерения толщины и оптических показателей тонких пленок (лазерные эллипсометры, спектроскопичесике эллипсометры, сканирующие эллипсометры, рефлектометры).
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы
Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника
SI 500 PPD Parallel Plate PECVD Deposition System — установка плазмо-химического осаждения диэлектриков с параллельными пластинами (PECVD) производства SENTECH Instruments GmbH (Германия).
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника, травление в индуктивно-связанной плазме, ИСП плазма, травление наноструктур
Система травления SI 500 PTSA ICP plasma etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов высокоскоростного сухого плазменного травления кремния (в том числе Bosh-процесс), диэлектриков и полупроводниковых структур (особенно III/V и микрооптики) и наноструктур в индуктивно-связанной плазме.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы, Плазмохимическоe осаждение с источником индуктивно-связанной плазмы, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника
SI 500 D PTSA ICP Plasma Deposition System (ICPECVD) — установка нихкотемпературного плазмо-химического осаждения диэлектриков в индуктивно-связанной плазме (ICPECVD) с вакуумным загрузочным шлюзом.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Анализ топографии, Лазерные системы, Аналитические системы, Научно-исследовательские комплексы
Ключевые слова: оборудование, микроэлектроника, нанотехнологии, установки плазменного осаждения, эллипсометры
CER SE 500adv — уникальный комбинированный лазерный (сканирующий) эллипсометр-рефлектометр с возможностью проведения измерений пленок под различными углами разработан для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения) на различных типах поверхностей. Для измерения нанопленок.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическоe осаждение из газовой фазы
Ключевые слова: плазменное осаждение, плазмо-химическое осаждение, микроэлектроника
Depolab 200 — PECVD установка плазмо-химического осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза (open lid system).
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Плазмохимическое травление, Реактивное ионное травление, Оборудование планарных технологий
Ключевые слова: плазменное травление, плазмо-химическое травление, реактивно-ионное травление, микроэлектроника
Система травления RIE Etchlab 200 Plasma Etcher предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов сухого плазменного травления.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH (Германия)
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Анализ топографии, Анализ рельефа поверхности, Лазерные системы, Научно-исследовательские комплексы
Ключевые слова: микроэлектроника, нанотехнологии, полупроводники, аналитическое оборудование, спектрометры, установки плазменного травления, установки плазменного осаждения, эллипсометры, плазменная очистка
SE 400adv — новейший лазерный (сканирующий) эллипсометр с возможностью проведения измерений пленок под различными углами. Прибор разработан для высокоточного измерения толщины и оптических характеристик пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения) на различных типах поверхностей. Для измерения нанопленок.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Анализ проводимости поверхности, Анализ топографии, Приборы для микроанализа поверхности, Анализ рельефа поверхности, Лазерные системы
Ключевые слова: SENDIRA, лазерный эллипсометр, метрология тонких пленок, измерение толщины и оптических характеристик тонких пленок
ИК-Фурье спектроскопическая эллипсометрическая система SENDIRA (инфракрасный спектральный эллиспометр) со спектральным диапазоном от 400 см-1 до 6000 см-1 (1666–25000 нм) и управляемым компьютером моторизованным гониометром.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Анализ проводимости поверхности, Приборы для микроанализа поверхности, Лазерные системы
Ключевые слова: SENDURO, лазерный эллипсометр, метрология тонких пленок, измерение толщины и оптических характеристик тонких пленок
Высокопроизводительная автоматическая эллипсометрическая измерительная система SENDURO® на базе УФ-ВИД спектроскопического эллипсометра с возможностью сканирования. Спектральный диапазон: 290–850 нм.
Производитель: SENTECH Instruments GmbH
Поставщик: МИНАТЕХ, ООО
Рубрикатор: Анализ проводимости поверхности, Анализ топографии, Приборы для микроанализа поверхности, Анализ рельефа поверхности, Лазерные системы
Ключевые слова: SENresearch, SE 800, SE 800E, SE 850, SE 800DUV, SE 850DUV, микроэлектроника, нанотехнологии, полупроводники, аналитическое оборудование, спектрометры, установки плазменного травления, установки плазменного осаждения, эллипсометры, плазменная очистка
SENresearch — серия новейших спектроскопических эллипсометров с диапазоном длин волн от 190 (DUV) до 2500 (IR) нм. специально разработанных для исследований с возможностью проведения измерений толщин одно- и многослойных пленок и пленочных структур под различными углами и для измерения оптических характеристик пленочных структур (коэффициент преломления, показатель поглащения) на различных типах поверхностей в УФ и видимом ИК диапазонах с возможностью расширений спектрального диапазона до 190 — 2500 нм.
На страницу назад
На страницу вперед
© www.rusnanonet.ru 2008-2015. Все права защищены.
Перепечатка материалов сайта разрешается только с активной ссылкой на www.rusnanonet.ru
Нанотехнологическое оборудование. Портал RusNanoNet.ru
