Инструменты нанотехнологий

Nanofab. Система для осаждения наноструктур

Системы Nanofab позволяют выращивать нанотрубки и нанопровода в контролируемых процессах с высокой скоростью роста. Наноструктуры выращиваются в местах каталитической активации поверхности подложки.

Системы Nanofab700 и Nanofab800Agile созданы на основе серии Plasmalab System 100. Основным достоинством серии Nanofab является использование теплостойких материалов c низкой теплоемкостью, устойчивых к температурным перепадам. Скорость нагрева подложкодержателя установки Nonofab 800 Agile достигают 130°С/мин. Столь высокий показатель достигнут благодаря использованию специально сконструированного элемента нагревателя на базе PBN технологии.

Системы серии Nanofab позволяют проводить процессы формирования островов роста и плазменной активации катализаторов роста нанотрубок.

Контроль скорости роста, направленния роста и диаметра нанотрубок достигается одновременным варьированием температуры электрода, частоты возбуждения плазмы и мощности, вкладываемой в разряд.

Системы серии Nanofab поддерживают стандартные процессы PECVD осаждения аморфного кремния и оксидов, нитридов кремния.

Основной модуль установки Nanofab полностью совместим по стандарту MESC. Поэтому модули Nanofab могут использоваться в кластерной системе серии System 100 Pro или других кластерных системах совместимых со стандартом MESC.

Конфигурации Nanofab для осаждения
  Nanofab 700 Nanofab 800 Agile
Загрузка шлюз шлюз
Подложки до 200 мм до 200 мм
Возбуждение плазмы ВЧ/НЧ опция ВЧ/НЧ опция
Совместимость со стандартными PECVD процессами да (при заказе соответствующих линий подачи газов) да (при заказе соответствующих линий подачи газов)
Подача жидких прекурсоров опция опция
Диапазон температур подложкис РРГ от +100°С до +650°С от +200°С до +800°С
Скорость нагрева подложкодержателя до 15°С/мин до 130°С/мин
Неоднородность температуры по подложке 200 мм +/-3 °C +/-5 °C
Совместимость с процессами в O2 до 650°С до 400°С
Линий газоподачи с РРГ до 8 (12) до 8 (12)
Плазменная очистка камеры опция опция
Вакуумная система насос Рутса/ТМН (опция) насос Рутса/ТМН (опция)
Система управления PC2000 PC2000

Система оснащается столиком-подложкодержателем диаметром 240 мм, на котором могут быть размещены одна или несколько подложек диаметром от 50 мм до 200 мм.

размер подложки максимальная загрузка
50 мм/ 2" 9 шт
75 мм/ 3" 4 шт
100 мм/ 4" 2 шт
150 мм/ 5" 1 шт
200 мм/ 6" 1 шт

Практическая загрузка может быть меньше приведенной максимальной и определяется спецификацией конкретного процесса и требованиями однородности обработки.

Информация предоставлена ИНТЕК, Technoinfo Limited

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ