Инструменты нанотехнологий

НаноФаб 100: Кластер плазменных технологий

Кластер плазменных технологий предназначен для осуществления операций очистки, травления и осаждения.

Кластер плазменных технологий обеспечивает:

  • субмикронное скоростное травление диэлектриков (SiO2, Si3N4);
  • травление металлов, в том числе и чисто ионное травление золота, меди и других металлов, не образующих летучих соединений;
  • травление монокристаллического кремния в различных типах процессов;
  • травление арсенида и нитрида галлия;
  • травление полиимида, снятие резистов;
  • осаждение диэлектриков с хорошим качеством и равномерностью (SiO2, Si3N4);
  • обработку в плазме водорода и в атомарном водороде

Габаритные размеры кластера - 320х320 см.

Состав кластера ПП

Модуль ПХТ
Модуль плазмохимического травления
Модуль ПХГФО
Модуль плазмохимического осаждения из газовой фазы
Транспортный модуль
Сверхвысоковакуумный радиальный транспортный модуль
Модуль загрузки
Модуль загрузки и хранения образцов
Модуль переворота
Сверхвысоковакуумный модуль переворота и передачи пластин

Дополнительные материалы:

Базовое оборудование:

Информация предоставлена ЗАО «НТ-МДТ»

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ