Инструменты нанотехнологий

PlasmaPro NGP80. Установка для исследовательских работ

Компактная система с открытой загрузкой для проведения процессов плазмохимического травления и нанесения, пришедшая на смену отлично зарекомендовавшей себя системе Plasmalab 80plus. Использование PlasmaPro NGP80 позволяет решать как исследовательские задачи, так и организовать мелкосерийное производство. Возможна обработка пластин диаметром вплоть до 200 мм.

PlasmaPro NGP80 — малогабаритная система с непосредственной загрузкой подложек в рабочую камеру представляет собой гибкое и недорогое решение для проведения исследовательских работ и организации мелкосерийного производства.

Система предлагается в различных вариантах исполнения:

  • плазмохимическое осаждение (PECVD)
  • реактивное ионное травление (RIE)
  • плазмохимическое травление (PE)
  • комбинированные RIE/PE системы для приложений реверсивной инженерии
  • плазмохимическое травление с источником индуктивно-связанной плазмы (ICP Etch)

На электроде-подложкодержателе может быть размещена одна пластина диаметром 200 мм или несколько пластин меньшим диаметром.

Управление системой выполняется с использованием новейшего программного обеспечения PC4000.

Дополнительные материалы:

Информация предоставлена Technoinfo Limited

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ