Инструменты нанотехнологий

SemiTEq STE 75. Установка молекулярно-лучевой эпитаксии

Универсальная компактная система молекулярно-лучевой эпитаксии STE 75 для выращивания широкого спектра полупроводниковых соединений А3В5 и широкозонных соединений А2В6.

Универсальная компактная трехкамерная установка МЛЭ SemiTEq STE 75 разработана для выращивания широкого спектра полупроводниковых соединений А3В5 и широкозонных соединений А2В6, а также в специальном исполнении — А3N выполнена с учетом последних достижений в области молекулярно-лучевой эпитаксии полупроводников в данных системах материалов.

Областью применения установки является широкий спектр НИР и НИОКР по приборной тематике, основанной на материалах А3В52В6 и A3N.

Ключевые характеристики

  • Предельный уровень вакуума в камере роста после прогрева 5∙10-11 Торр;
  • Температура прогрева камер роста и предварительной подготовки — не менее 200°С;
  • Максимальный рабочий диаметр подложки — 50,8 мм (предусмотрена возможность переоснащения установки для использования подложек диаметром до 100 мм);
  • Максимальная рабочая температура ростового манипулятора:
    • для соединений А3В52В6 — не менее 900°С;
    • для соединений А3N — не менее 1250°С;
  • Конструкция нагревательного элемента ростового манипулятора: PBN/PG/PBN.

Ключевые преимущества

  • Возможность модернизации без замены камер для использования подложек диаметром до 100 мм
  • Оптимизированный расход жидкого азота
  • Возможность наращивания технологических и аналитических показателей
  • Широкие возможности модернизации и дооснащения новыми узлами
  • Оснащённость всей необходимой in-situ диагностической аппаратурой
  • Полуавтоматизированный транспорт подложки между камерами
  • Возможность предварительного отжига подложки в камере подготовки
  • Предельная температура продолжительного роста AlN более 1250°С
  • Высокая скорость роста (до 2 мкм/ч)
  • Пониженный расход жидкого азота
  • Быстрый технологический старт, обеспеченный технической и технологической поддержкой на высоком уровне
  • Удобство работы и обслуживания

Дополнительные материалы:

Информация предоставлена ЗАО «Научное и технологическое оборудование»

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ