Инструменты нанотехнологий

Zeiss Supra 40/40VP. Сканирующий электронный микроскоп

Многоцелевой высокопроизводительный автоэмиссионный растровый электронный микроскоп.

Zeiss Supra 40 / Zeiss Supra 40VP — это универсальные лабораторные автоэмиссионные растровые микроскопы, использующие электронно-оптическую колонну GEMINI 3-го поколения.

Высококачественные изображения, с потрясающими глубиной и контрастом, в комбинации с широкими аналитическими возможностями делают эти микроскопы настоящими «рабочими лошадками» многих лабораторий мира, специализирующихся в различных областях исследований — изучение и разработка новых материалов, анализ отказов, контроль производства, крио-приложения, нанотехнологии, прикладные аналитические исследования и др.

Одной из уникальных особенностей серии SUPRA является легендарная технология GEMINI. Конструкция электронно-оптической колонны GEMINI такова, что в каких бы режимах вакуума, ускоряющих напряжений или увеличений не происходила работа — Вы всегда будете получать результаты с наивысшим разрешением и потрясающего качества.

И, как следствие, оборудование на базе технологии GEMINI является незаменимым при работе в любой из областей наноисследований.

Большая рабочая камера Zeiss Supra 40 / Zeiss Supra 40VP специально адаптирована для подключения практически любых из известных систем и приставок, что позволяет подбирать конфигурацию микроскопов как для узких областей применения, так и для работ одновременно с широким спектром приложений.

Вместе с Zeiss Supra 40 или Zeiss Supra 40VP Вы получаете:

  • сверхвысокое разрешение даже на малых ускоряющих напряжениях: 2.1 нм при 1 кВ, 5.0 нм при 200 В;
  • аналитическую геометрию рабочей камеры (рабочее расстояние для EDS, WDS и EBSD приставок составляет всего 8,5 мм), обеспечивающую получение высококачественных данных микроанализа синхронно с получением изображений со сверхвысокими разрешениями;
  • сверхстабильный ток пучка — 0,2 % в час / до 20 нА, что обеспечивает высочайшее качество результатов рентгеновского и дифракционного анализов;
  • новый ультрачувствительный встроенный детектор вторичных электронов, гарантирующий получение изображений с непревзойденным контрастом;
  • возможность использования режимов низкого вакуума (VP) и их комбинаций с работой на низких ускоряющих;
  • уникальные исследовательские возможности при работе с дифракционными приставками (EBSD);
  • уникальные исследовательские возможности при работе с катодолюминесценцией (CL);
  • проведение прецизионных измерений частиц и включений во всем диапазоне увеличений.
Свойство Значение
Основные технические характеристики Zeiss Supra 40 / Zeiss Supra 40VP
Пространственное разрешение 1.3 нм при 15 кВ
2.1 нм при 1 кВ
5.0 нм при 0.2 кВ
Диапазон увеличений 12х — 900 000х в режиме вторичных электронов
Источник электронов Автоэмиссионный (термоэмиссионного типа).
Стабильность лучше, чем 0.2% в час.
Диапазон ускоряющих напряжений 20 В — 30 000 В
Диапазон рабочих токов 4 пА — 10 нА (40 нА опционально)
Диапазон низкого вакуума (для SUPRA 40VP) 1–133 Па
Встроенные детекторы 1) In-lens SE
2) Детектор вторичных электронов Эвернхарта-Торнли
3) ИК-камера для обзора рабочей камеры
Рабочая камера* Диаметр 330 мм, высота 270 мм
Столик: X/Y = 130 мм, Z = 50 мм, наклон -30° ÷ +70°, вращение 360°

Опционально:
Подключение микроанализа**: EDS, WDS, EBSD, CL
Подключение литографии***
Вакуумная система Полностью безмасляная
Дополнительные системы Встроенная антивибрационная подвеска
Графика С разрешением не хуже 3072 х 2304 пикселей
Отображение 1 или 2 ж/к монитора профессиональной серии с диагональю 19"
Печать изображений Любой принтер, совместимый с Windows®
Управление SmartSEMTM* под управлением Windows® XP, управляемый манипулятором «мышь», клавиатурой, джойстиками и, опционально, с помощью выносной панели.
* типы и параметры столиков могут быть изменены под заказ
**/*** комплектация зависит от окончательной конфигурации
SmartSEMTM* пятое поколение Графического пользовательского интерфейса для управления растровыми микроскопами.
The SUPRA 40 with EDS detectors installed

The SUPRA 40 with EDS detectors installed

Cryo fracture of tobacco leaf, showing excellent contrast at 2.6 kV with the in-lens detector. The Cryo preparation system was interfaced via the cryo port onto the SUPRA 40 chamber.

Cryo fracture of tobacco leaf, showing excellent contrast at 2.6 kV with the in-lens detector. The Cryo preparation system was interfaced via the cryo port onto the SUPRA 40 chamber.

Информация предоставлена ОПТЭК (ZEISS Group)

Отправить сообщение представителю компании

2 9 A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Z А Б В Г Д Е И К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Э ВСЕ